您的位置:主页   产品中心    高纯稀土氟化物    高纯氟化钇 YF₃
0
购物车
清除全部
期待您的咨询
*
*
*
高纯氟化钇 YF₃
CAS:13709-49-4
化学式:YF₃
分子量:145.91 g/mol。
外观:白色粉末或晶体
密度:4.01 g/cm³
熔点:约1152°C
沸点:2230°C。
溶解性:不溶于水,溶于酸
储存条件:干燥、阴凉处
我们能为您做什么
*
这是一个必填项
您需要的总数量
*
这是一个必填项
这是一个必填项
电子邮件格式错误
由于电子邮件可能不稳定,为避免错过我们的信息,请提供您的电话号码,以便我们能够通过其他方式与您联系。 *
这是一个必填项
电话格式有误
提交
img of mask_layer_close
高纯氟化钇 YF₃
高纯氟化钇 YF₃
高纯氟化钇 YF₃
高纯氟化钇 YF₃
高纯氟化钇 YF₃
Yttrium fluoride YF₃
产品详情
产品规格


相对纯度
Min.%
99.99999.99599.99
稀土总量
Min.%
77±177±177±1
稀土杂质
Max.%
La₂O₃0.00010.00050.0010
CeO₂0.00010.00050.0010
Pr6O110.00010.00050.0010
Nd₂O₃0.00010.00050.0010
Sm₂O₃0.00010.00050.0010
Eu₂O₃0.00010.00050.0010
Gd₂O₃0.00010.00050.0010
Tb4O70.00010.00050.0010
Dy₂O₃0.00010.00050.0010
Ho₂O₃0.00010.00050.0010
Er₂O₃0.00010.00050.0010
Tm₂O₃0.00010.00050.0010
Yb₂O₃0.00010.00050.0010
Lu₂O₃0.00010.00050.0010
非稀土杂质
Max.%
Fe₂O₃0.00100.00500.0100
SiO₂0.01000.02000.0300
CaO0.00500.00500.0050
F39±139±139±1
灼减 L.O.I
Max.%
2.02.02.0


SEM


、

ZH-YF-M


产品应用


未标题-1.jpg


氟化钇具有低折射率和在紫外光与红外光区域较高的透过率等特性,可用于光学镀膜,可镀在光学镜片、棱镜等光学元件表面,用于减少反射、增加透光率。

Yttrium-fluoride-YF₃.jpg


作为掺杂基质材料,用于制造稀土掺杂的激光晶体,实现有效的激光发射,用于激光加工、激光医疗、激光通信等领域。

未标题-3.jpg


在半导体等离子喷涂工艺中,氟化钇粉末被用作涂覆材料,主要用于提高半导体制造设备的耐热性、耐腐蚀性和绝缘性能。


其他应用:除此之外,氟化钇可用于制造荧光粉,应用于LED照明和显示器背光;氟化钇也可作为陶瓷材料制作高性能陶瓷和电子陶瓷。我们的氟化钇还可以用作催化剂,提升反应速;氟化钇在核工业、电子材料和科研领域也有着很大的作用。


常见问题及解答


  • 1. 能否提供氟化钇样品?我们可以提供10g-50g左右的样品。

  • 2. 通过什么方式运输货物?我们有陆运、海运、空运方式,但是主要以海运方式运输为主。

  • 3. 激光晶体是怎么作用于激光设备的?激光晶体通常被放置在激光谐振腔的内部,作为增益介质,在谐振腔中,激光晶体通过受激发射放大光信号,产生激光。

  • 4. 半导体等离子喷涂的作用原理是什么?利用高温等离子体将喷涂材料(如陶瓷、金属或复合材料)加热至熔融或半熔融状态,并高速喷射到基体表面形成高性能涂层的表面处理技术。


包装方式


1. 双层塑料袋,密封,装入铁桶,每桶净重50Kg

2. 规格可按用户特殊要求调整


未标题-6.jpg

立即咨询
姓名*
电话*
邮箱
留言内容*
验证码*
  
其他产品
热门产品