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高纯氟化钕 NdF₃
CAS 号:13709 - 42 - 7
化学式:NdF₃
分子量:201.2
外观:紫红色粉末
密度:6.50 g/cm³
熔点:1386℃
沸点:约2300℃
溶解性:不溶于水,微溶于酸
储存条件:需存于干燥、阴凉、密封容器内
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高纯氟化钕 NdF₃
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高纯氟化钕 NdF₃
产品详情
产品规格


相对纯度
Min.%
99.9999.9
稀土总量
Min.%
84±184±1
稀土杂质
Max.%
Y₂O₃0.00050.0100
La₂O₃0.00050.0050
CeO₂0.00050.0050
Pr6O110.00250.0500
Sm₂O₃0.00100.0200
Eu₂O₃0.00050.0050
Gd₂O₃0.00050.0050
Tb4O70.00050.0050
Dy₂O₃0.00050.0050
Ho₂O₃0.00050.0050
Er₂O₃0.00050.0050
Tm₂O₃0.00050.0050
Yb₂O₃0.00050.0050
Lu₂O₃0.00050.0050
非稀土杂质
Max.%
Fe₂O₃0.00100.0050
SiO₂0.05000.0900
CaO0.01000.0500
F28±128±1
灼减 L.O.I
Max.%
22


产品应用


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氟化钕是制取高性能永磁材料制备原料的关键前驱体。经特定工艺从氟化钕得到的材料,是制备钕铁硼合金的核心成分。钕铁硼合金凭借高剩磁、高矫顽力与高磁能积等突出特性,在风力发电等众多行业发挥着重要作用。

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氟化钕是航空用于镁合金的添加剂,能改善镁合金的性能,如提高其强度、硬度、耐热性和耐腐蚀性等,使镁合金更适合用于航空航天等对材料性能要求较高的领域。

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氟化钕用于制备探测器的闪烁体材料,闪烁体材料如碘化铯,当射线等粒子入射到含有氟化钕的碘化铯中,能发出闪烁光,可将射线等信号转化为光信号,便于探测和分析。


其他应用:在电子器件制造中,氟化钕可充当掺杂剂。借助对其掺杂浓度及类型的精确把控,能够有效调整半导体材料的导电特性。这一特性使其在各类功率电子器件以及集成电路的生产中得到广泛应用,助力提升电子设备的性能与运行效率。


常见问题及解答


  • 1. 能否提供高纯氟化钕样品?我们可以提供10g-50g左右的样品。

  • 2. 通过什么方式运输货物?我们有陆运、海运、空运方式,但是主要以海运方式运输为主。

  • 3. 氟化钕在半导体领域有哪些应用?氟化钕在半导体领域可作掺杂剂调电学性能,用于蚀刻工艺,还能制成薄膜起绝缘等作用,提升器件性能与可靠性。

  • 4. 在电子陶瓷(如压电陶瓷、热敏陶瓷)中,氟化钕的作用是什么?在压电陶瓷中,氟化钕能调整压电性能,改变压电常数,影响能量转换效率;在热敏陶瓷中,可调节电阻 - 温度特性,提升灵敏度与稳定性。


包装方式


1. 双层塑料袋,密封,装入铁桶,每桶净重50Kg

2. 规格可按用户特殊要求调整


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